真空甩帶爐是用來制備和開發亞穩材料(如非晶態材料)的專用設備，該設備除了具有感應爐的全部特點外，還具有制備塊體金屬非晶及金屬薄帶的功能,適用于各種非晶及微晶材料的研究及實驗工作。 　　真空甩帶爐廣泛用于新型稀土永磁材料非晶軟磁材料及納米材料科學的開發與研究。以下是主要技術參數： 　　1.樣品熔煉量：500~1000g; 　　2.輥輪尺寸：φ300mmx100mm(帶水冷); 　　3.銅棍速度：1-3000r/min; 　　4.真空度：優于5x10-4Pa; 　　5.熔煉電源功率：35KW; 　　6.熔煉溫度：500℃-1700℃，滿足絕大多數實驗要求; 　　7.熔煉坩堝：氮化硼; 　　8.條帶寬度：10-50mm; 　　9.真空腔尺寸：450×450×680mm (L*W*H) 　　10.設備尺寸：2050*1160*1850m(L*W*H) 　　11.標配：主機及感應熔煉電源 　　12.模塊化設計，占地空間小，安裝方便 　　真空甩帶機由真空室、甩帶裝置、坩堝自動升降裝置、氣路系統、機殼和熔煉電源等組成。 　　1、真空室：采用304板組焊而成并做表面處理，爐門上裝有大尺寸觀察窗，既滿足高真空要求，又便于觀察實驗情況。 　　2、甩帶裝置：采用伺服電機驅動，無極調速，密封采用磁流體密封裝置，銅棍拆卸方便。轉動平穩，噪音極低。 　　3、坩堝自動升降系統：采用伺服電機升降，可根據不同材料設備不同噴帶參數。 　　4、氣路系統：由電磁閥、壓力罐、手動閥門和管路組成， 　　5、機殼：結合國內外設備外觀經驗，根據自身設備特點，設計出合理機殼，外表噴塑處理; 　　6、熔煉電源：定制的專用熔煉電源，操作簡單，結構小巧; 　　7、觸摸屏+PLC控制，可視化操作界面。 　　好了，今天的分享就到此了。如果您想了解更多關于真空燒結爐的相關知識，歡迎咨詢。

　　高溫石墨化爐用途是什么　　石墨化提純爐的高溫設備，又稱作高溫石墨化爐，需要石墨化處理的材料還包括碳納米管、核石墨、天然石墨和人造石墨等。石墨化是指高溫下碳原子由雜亂不規則排列轉變為規則排列的六方平面網狀結構，即石墨微晶結構，其目的是獲得石墨高導電、高導熱、耐腐蝕、耐摩擦等的性能。　　石墨化溫度可高達3100℃，溫度越高，石墨化微晶結構發育越完善，在如此高的溫度下，其他低熔點的原子均以氣體形式排出，從而實現材料的提純。　　高溫石墨化爐用途：　　（1）可用于石墨粉料的連續式高溫石墨化提純，并可實現高溫法與化學法相結合的提純處理。　　（2）可實現高溫下連續式進料和出料，減少了能源消耗，縮短生產周期。　　（3）高溫石墨化爐采用感應加熱，溫度可達2850℃以上。　　（4）采用高溫法和化學法相結合的提純方式，可滿足高純度處理要求。　　（5）采用效率高的過濾系統，能有效捕集提純過程中產生的粉塵、腐蝕性氣體等。　　（6）高溫石墨化爐可實現高溫下連續式進料和出料，減少了能源消耗，縮短生產周期。