真空熔煉爐各結構功能介紹 　　真空熔煉爐廣泛應用于硬質合金、功能陶瓷、粉末冶金等在高溫、高真空條件下進行熱壓燒結處理，也可在充氣保護情況下熱壓成形燒結。下面就一起了解下結構說明： 　　1、真空熔煉爐為立式結構，采用雙層水夾層結構，內、外壁及法蘭均為304不銹鋼。爐體分為兩部分，其中三分之一為爐蓋可手動完全側開門，三分之二部分為固定爐體，設計獨特，便于操作。 　　2、它的真空系統由油擴散泵、羅茨泵、機械泵配電磁壓差閥(防止因突然停電、機械泵油倒灌)充氣閥、放氣閥、真空蝶閥、真空壓力表(±Pa)波紋管、真空管路和支架等組成。 　　3、液壓系統是采用電動輸入方式。由液壓站配有進口比例閥、壓力傳感器、位移顯示器采用光柵尺(測距精度0.02mm)、液壓缸等相關液壓裝置，壓力調節半自動化、可通過手動調節。儀表可設定自動調節壓力，并能實現穩壓、保壓。 　　4、真空熔煉爐水冷系統是由各種閥管道相關裝置組成且設有斷水聲光報警自動切斷加熱源或功能。 　　5、真空熔煉爐的溫控系統采用可控硅控溫，配置有PID功能儀表，數顯表，具有超溫聲光報警功能，也可選用PLC觸摸屏自動控制，并保留歷史數據，便于分析燒結過程。 　　6、真空燒結爐的充氣系統由各種管道及閥門組成，并配有電磁放氣閥、壓力傳感器，當爐內壓力高于安全值時會自動放氣，充氣管路上裝有針閥，可控制充氣量。

　　氣相沉積爐的特點是什么 　　氣相沉積爐可用于以碳氫氣體為碳源的復合材料的化學氣相沉積。其中CVD沉積爐是指高溫下的氣相反應，例如，金屬鹵化物、有機金屬、碳氫化合物等的熱分解，氫還原或使它的混合氣體在高溫下發生化學反應以析出金屬、氧化物、碳化物等無機材料的方法。這種技術開始是作為涂層的手段而開發的，但目前，不只應用于耐熱物質的涂層，而且應用于高純度金屬的精制、粉末合成、半導體薄膜等，是一個頗具特征的技術領域。 　　設備特點在于：(1)在低溫下合成高熔點物質;(2)析出物質的形態在單晶、多晶、晶須、粉末、薄膜等多種;(3)不僅可以在基片上進行涂層，而且可以在粉體表面涂層，特別是在低溫下可以合成高熔點物質，在節能方面做出了貢獻，作為一種新技術是大有前途的。 　　下面小編詳細列舉幾條爐子的特點，以便大家能更好的了解爐子的性能。 　　氣相沉積爐工作區尺寸可達2.5m×2m×4.5m，能滿足超大型工件化學氣相沉積處理需求；并且，采用多溫區獨立控溫，溫度均勻性好； 　　與此同時采用特殊結構沉積室，密封效果好，抗污染能力強； 　　氣相沉積爐采用多通道沉積氣路，流場均勻，無沉積死角，沉積效果好； 　　氣相沉積爐對炭沉積過程中產生的焦油、固體粉塵、有機氣體等能進行有效處理。